在精密制造領域，光柵尺作為位移測量的“黃金標準”，其精度可達微米甚至納米級。這種驚人的性能背后，究竟隱藏著哪些核心技術？

一、納米級光柵刻線：精度的物理基礎

光柵尺的核心是一組間距極小的平行刻線，通過超精密光刻工藝在玻璃或金屬基體上加工而成。現代光刻技術可實現1μm以下的刻線間距，配合鍍鉻或鍍金工藝增強反光率。德國Heidenhain等廠商甚至能生產刻線誤差小于±0.1μm的絕對式光柵尺，相當于頭發絲的1/800精度。

二、莫爾條紋信號放大機制

當指示光柵與主光柵產生相對位移時，會形成明暗相間的莫爾條紋。這種光學放大效應能將微小位移轉換為大幅度的光強變化，例如1μm的位移可能對應10mm寬的條紋移動。通過四象限光電二極管接收信號，系統可檢測到納米級的相位變化。

三、智能信號處理系統

現代光柵尺內置32位DSP處理器，采用細分技術將原始信號分解為數千份。如雷尼紹的RESOLUTE系列可實現1nm分辨率，其動態補償算法能消除振動帶來的測量誤差。數字濾波技術還可抑制90%以上的電氣噪聲干擾。

四、溫度補償與機械防護

高精度光柵尺采用零膨脹玻璃或特殊合金材料，配合實時溫度傳感器。當環境溫度變化1℃時，補償系統可自動修正0.1ppm的線性誤差。密封式設計配合特殊潤滑劑，能確保在機床油霧環境下長期穩定工作。

五、工業場景中的精度驗證

在五軸數控機床上，光柵尺需通過激光干涉儀進行動態校準。ISO230-2標準要求定位精度≤3μm/m，重復定位精度≤1μm。三坐標測量機使用的光柵尺更需通過21項誤差補償，確保三維空間測量不確定性小于0.5μm。

從半導體光刻機到航天零部件加工，光柵尺的高精度特性正推動著現代制造業的極限突破。隨著量子測量技術的引入，未來光柵尺有望進入亞納米測量時代。